높은밀도,신뢰성및성능을위한차세대범프기술

铜柱撞는收发器、嵌入式/应用程序处理器、电源管理、基带、asic和soc와같은애플리케이션용
인터커넥트에탁월한선택이되도록미세한音高를가능하게합니다。
이기술은디바이스의소형화를가능하게하고衬底층수를줄여주며,罚款,RoHS /친환경준수,저비용및电迁移성능을요구하는디바이스에이상적입니다。

铜柱플랫폼

  • 微细CSP
  • 面积阵精螺距FCBGA
  • µ撞:F2F,TSV

생산현황

  • 2010년부터300单位이상출하
  • 铜,无铅和铜/镍/无铅
  • 14 nm生产

패키지구조

  • 裸死CSP /流行
  • 塑造流行/烟草花叶病毒®
  • TSV
  • FCBGA

问&

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